化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。

化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产效率高。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。

工艺优缺点

优点：

1、化学抛光设备简单，不需要什么特殊设备，只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。

2、如果用细薄磨料片切割的试样，切割后不需要砂纸磨光，即可直接抛光。

3、有些非导体材料也可以用化学抛光，非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。

4、化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件。

缺点：

1、化学抛光的质量不如电解抛光。

2、化学抛光所用溶液的调整和再生比较困难，在应用上受到限制。

3、化学抛光操作过程中，硝酸散发出大量黄棕色有害气体，对环境污染非常严重。

4、抛光溶液的使用寿命短，溶液浓度的调节和再生比较困难。